УФ-Озоновый очиститель Ossila UV-Ozone

УФ-озоновый очиститель Ossila

Система УФ-озоновой очистки от Ossila способна устранить загрязнения на поверхности образцов и получить сверхчистую поверхности в течение нескольких минут. С помощью мощного УФ источника света озон генерируется и превращает загрязнения на поверхности в летучие соединения. Эти соединения испаряются с поверхности, не оставляя на ней никаких следов. такой метод позволяет получать практически атомарно-чистую поверхность образца без его повреждения.

УФ-озоновый очиститель Ossila имеет лоток для образцов размером 120 мм × 120 мм для расположения их под УФ-источником света. Работа системы очень проста — просто поместите образцев в этот лоток, задвиньте его и нажмите кнопку «Go», а низкая цена системы позволяет установить ее в любую лабораторию без существенных затрат.

Что такое УФ-озоновая чистка?

УФ озоновая чистка — это фоточувствительный процесс окисления, в котором коротковолновой УФ излучение поглощается органическими молекулами, что позволяет разрушить их и устранить с поверхности образца благодаря химической реакции с молекулами озона. Это очень удобный метод для очищения поверхностей от фоторезистов, смол, следов растворителей, флюсов, масел, а также для поверхностной стерилизации. В отличие от других методов очистки, таких как кислородно-плазменная обработка, УФ-озоновая очистка не вызывает значительных повреждений поверхности.

УФ-озоновая система использует высокоинтенсивный УФ источник света, который облучает поверхность мишени волнами с двумя длинами: 185 нм и 254 нм. Молекулярный кислород (О₂), присутствующих в системе, разрушается под воздействием УФ излучения с длиной волны менее 200 нм, в результате чего образуются две свободных радикала кислорода (О•). Каждый из этих свободных радикалов впоследствии может реагировать с другими молекулами кислорода, в результате чего образуются молекулы озона (О₃).

УФ излучение с длиной волны более 200 нм не поглощается остаточным кислородом, зато активно взаимодействует с органическими химическими молекулами, присутствующими на поверхности очищаемого образца.

Это излучение поглощается на поверхности, что приводит к возникновению возбужденных состояний этих молекул, либо органических радикалов. Они, в свою очередь, вступают в реакцию с нестабильными молекулами озона и образуют летучие соединения — например, СО₂, Н₂О, N₂, а также органические вещества с короткой цепочкой. Летучие соединения легко десорбируются с поверхности, оставляя ее чистой.

Для получения дополнительной технической информации по УФ-озоновому очистителю Ossila — обратитесь к материалам сайта https://www.ossila.com или свяжитесь с технической поддержкой.