Go To Top

УФ-Озоновый очиститель Ossila UV-Ozone

Ossila UV-Ozone

УФ-озоновый очиститель Ossila

Ossila UV-Ozone

Дисплей и блок управления УФ-озоновым
очистителем Ossila

Ossila UV-Ozone

Лоток для образца в УФ-озоновом
очистителе Ossila

Система УФ-озоновой очистки от Ossila способна устранить загрязнения на поверхности образцов и получить сверхчистую поверхности в течение нескольких минут. С помощью мощного УФ источника света озон генерируется и превращает загрязнения на поверхности в летучие соединения. Эти соединения испаряются с поверхности, не оставляя на ней никаких следов. такой метод позволяет получать практически атомарно-чистую поверхность образца без его повреждения.

УФ-озоновый очиститель Ossila имеет лоток для образцов размером 120 мм × 120 мм для расположения их под УФ-источником света. Работа системы очень проста — просто поместите образцев в этот лоток, задвиньте его и нажмите кнопку «Go», а низкая цена системы позволяет установить ее в любую лабораторию без существенных затрат.

Что такое УФ-озоновая чистка?

УФ озоновая чистка — это фоточувствительный процесс окисления, в котором коротковолновой УФ излучение поглощается органическими молекулами, что позволяет разрушить их и устранить с поверхности образца благодаря химической реакции с молекулами озона. Это очень удобный метод для очищения поверхностей от фоторезистов, смол, следов растворителей, флюсов, масел, а также для поверхностной стерилизации. В отличие от других методов очистки, таких как кислородно-плазменная обработка, УФ-озоновая очистка не вызывает значительных повреждений поверхности.

УФ-озоновая система использует высокоинтенсивный УФ источник света, который облучает поверхность мишени волнами с двумя длинами: 185 нм и 254 нм. Молекулярный кислород (О2), присутствующих в системе, разрушается под воздействием УФ излучения с длиной волны менее 200 нм, в результате чего образуются две свободных радикала кислорода (О•). Каждый из этих свободных радикалов впоследствии может реагировать с другими молекулами кислорода, в результате чего образуются молекулы озона (О3).

УФ излучение с длиной волны более 200 нм не поглощается остаточным кислородом, зато активно взаимодействует с органическими химическими молекулами, присутствующими на поверхности очищаемого образца.

Это излучение поглощается на поверхности, что приводит к возникновению возбужденных состояний этих молекул, либо органических радикалов. Они, в свою очередь, вступают в реакцию с нестабильными молекулами озона и образуют летучие соединения — например, СО2, Н2О, N2, а также органические вещества с короткой цепочкой. Летучие соединения легко десорбируются с поверхности, оставляя ее чистой.

Области применения

Области применения:

  • Очистка поверхностей
  • Подготовка к нанесению тонких пленок
  • Отвердение с помощью УФ
  • Стерилизация поверхности
  • Очистка образцов для AFM/STM
  • Химический реакции с воздействием УФ-излучения
  • Очистка оптических компонент
  • Увеличение гидрофильности поверхности
  • Удаление монослоев с поверхности
  • Окисление поверхностей

Материалы, которые могут быть очищены:

  • Кварц
  • Кремний
  • Оксид кремния
  • Нитрид кремния
  • Золото
  • Никель
  • Алюминий
  • Арсенид галлия
  • Алюминий
  • Стекло
  • Нержавеющая сталь

Ossila UV-Ozone Ossila UV-Ozone

Водяная капля на кремниевой пластине с OTS-загрязнением (300 нм слой оксида силикона на поверхности) до очистки (слева) и после 10 минут облучения в УФ-озоновом очистителе Ossila (справа)

Характеристики и особенности

Ossila UV-Ozone

Задняя панель УФ-озонового очистителя Ossila

  • Наименьшая цена на рынке УФ-озоновых очистителей
  • Платформа для расположения образцов размером 120×120 мм
  • Максимальная высота образцов — до 14 мм
  • Простая система загрузки образцов с помощью лотка
  • Интерлок на лотке
  • ЖК-дисплей, показывающий прошедшее и оставшееся время очистки
  • Таймер на 60 минут
  • Высокоинтенсивный УФ источник света
  • Температурная отсечка (защита от перегрева)
  • Образцы очищаются без растворителей
  • Позволяет получить сверхчистую поверхность

Спецификации системы

Тип УФ-лампы Сеточная УФ-лампа из синтетического кварца
Основные волны УФ-лампы 185 нм и 254 нм
Размеры УФ-лампы 100×100 мм
Питание УФ-лампы 4000 В, 30 мА
Срок службы УФ-лампы Т80 (2000 часов) — около 8-10 лет при ежедневном использовании
Требования к питанию 230 В, 0.6 А, 50 Гц (опционально — 110 В, 1.2 А, 60 Гц)
Максимальное время работы 59 минут 59 секунд
Предохранители Интерлок, предупреждение о высокой температуре, термальная отсечка
Размер лотка для образца 120×120 мм
Максимальный рекомендуемый размер образца 100×100 мм
Внешние габариты (Ш×В×Г) 204×227×300 мм

Для получения дополнительной технической информации по УФ-озоновому очистителю Ossila — обратитесь к материалам сайта https://www.ossila.com или свяжитесь с технической поддержкой.

ОБРАТНАЯ СВЯЗЬ

...